Читаем Солнечные элементы полностью

Для созданного в лаборатории солнечного элемента из гомогенного арсенида галлия с мелкозалегающим p-n-переходом получено η=21,1 % при освещении солнечным излучением со спектром наземного Солнца в условиях AM1 (степень концентрации 24) и η = 16,9 % (степень концентрации 325). При однократном потоке солнечного излучения со спектром AM1 и температуре 80^o C для такого элемента характерны следующие значения параметров: η=15,4 % и U_x.x=0,97 В. Компоненты, образующие полупроводниковый материал арсенид галлия, входят еще в целый ряд двойных, тройных и четверных полупроводниковых соединений с близкой к арсениду галлия постоянной кристаллической решетки, но различной шириной запрещенной зоны, зависящей от химического состава соединения. Тем самым открывается возможность образования на поверхности солнечных элементов из гомогенного арсенида галлия слоя другого полупроводникового соединения и создания эффективного гетероперехода, причем в силу близости постоянных решетки контактирующих материалов в таком гетеропереходе будут отсутствовать механические напряжения и рекомбинационные центры. В то же время плавное изменение химического состава и, следовательно, ширины запрещенной зоны E_g по глубине верхнего слоя гетероперехода позволяет создать так называемую варизонную структуру. Можно, например, получить структуру, в которой значение E_g у поверхности велико и уменьшается в глубину, — оптимальный случай для элементов, преобразующих солнечное излучение, поскольку высокоэнергичные фотоны ультрафиолетовой или коротковолновой видимой областей излучения Солнца поглощаются в самых верхних слоях элементов.

Такие гетероструктуры служат не только для изменения (как правило, расширения) спектральной чувствительности; они позволяют создавать в солнечных элементах из арсенида галлия значительные тянущие электростатические поля как за счет градиента распределения легирующей примеси по глубине элемента (что является единственно возможным способом получения тянущих полей в случае кремниевых солнечных элементов), так и за счет градиента ширины запрещенной зоны полупроводника.

Один из наиболее простых и оригинальных технологических приемов создания такой плавной варизонной структуры на поверхности солнечного элемента из арсенида галлия был разработан советскими авторами еще в середине 60-х годов. При этом для получения структуры использован не метод жидкостной или газовой эпитаксии, а хорошо отработанная техника термодиффузии. Для изготовления солнечного элемента применяли пластинку из арсенида галлия n-типа с концентрацией носителей N_n=1÷5×10¹⁷ см^-3, в которой путем термодиффузии фосфора в эвакуированной кварцевой ампуле (остаточное давление 10^-6 мм рт. ст.) при температуре выше 900^o C создавались поверхностный слой фосфида галлия и тонкая переходная область, состав которой плавно менялся от GaP до GaAs, что соответствовало изменению ширины запрещенной зоны E_g от 2,25 до 1,43 эВ (при комнатной температуре). Общая толщина слоя GaP и переходной варизонной области составляла 5–7 мкм. При последующей термодиффузии акцепторной примеси цинка в полученных структурах по аналогичной методике создавались p-n-переходы, глубину залегания которых можно было регулировать с помощью режимов процесса термодиффузии.

Изменение вида кривой спектральной чувствительности в таких элементах может быть легко достигнуто различной глубиной залегания p-n-перехода: кривая имеет резко выраженный максимум при λ=0,45 мкм, что обусловлено залеганием p-n-перехода в приповерхностном слое GaP, и два максимума (коротковолновый при λ=0,45 мкм и длинноволновый при λ=0,85 мкм) при расположении р-n-перехода в области переменного состава между фосфидом и арсенидом галлия. Следовательно, спектральную чувствительность таких солнечных элементов можно направленно изменять в интервале длин волн от 0,45 до 0,85 мкм. При большой глубине термодиффузии цинка и нахождении р — n-перехода в чистом арсениде галлия на кривой спектральной чувствительности остается практически один максимум при 0,85 мкм. Напряжение холостого хода U_x.x солнечных элементов на основе гетероструктуры фосфид галлия — арсенид галлия достигало 0,8 В, хотя КПД не превышал 4–5 %.

В дальнейшем было обнаружено, что в силу практически полного соответствия постоянных решетки твердого раствора алюминия в арсениде галлия и чистого арсенида галлия образуемый ими гетеропереход обладает весьма малой плотностью состояний и центров рекомбинации на границе раздела, что обеспечивает в этих структурах двустороннее собирание носителей заряда с высоким квантовым выходом. На основе такой гетероструктуры ленинградскими и московскими физиками в начале 70-х годов был создан солнечный элемент с η = 11 % при измерениях на имитаторе внеатмосферного солнечного излучения.